南山南Nanza2021-05-13 22:23:44榮耀這個子品牌自從與華為分離開後，在2021年一共向手機市場上推出了兩款產品，分別是榮耀V40和榮耀V40輕奢版。效能處理，兩款手機均搭載了聯發科的處理器晶片，那麼這款處理器的晶片到底如何呢？從新榮耀兩款產品推向市場，各位買家的反應可見一斑。為什麼要採用聯發科的晶片，相信在座的各位都明白其中緣由
。今天，我想要和大家說一說晶片製作背後的故事，晶片界的魯班大師——光刻機。
光刻機是什麼
光刻機又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。簡單來說，就是一種製造晶片的高階裝置，有多高階呢，目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML生產的EUV光刻機，其精度可以達到5nm的級別。舉個現實中常見的例子，一根頭髮絲的直徑大約是40-50微米，而1微米等於1000奈米，也就是說光刻機的精度相當於一根頭髮絲的萬分之一細小，這樣的精度，不清楚在顯微鏡下能不能區分開來。
那ASML的光刻機到底值多少錢？此前有報道稱他們的EUV光刻機，一臺大概1。2億歐元，約合10億人民幣，絕對是天價了，但三星、臺積電還在搶著買。我國也想要買一臺回來研究，但無奈你就算有錢買人家也押著貨物不給你，怕你研究出來什麼東西。
目前國內最先進的光刻機當屬上海微電子裝置的90nm光刻機，別看90nm和5nm距離上相差不是很多，但是對於超高階裝置來說，就相當於差了十萬八千里。不過據說，今年或者明年，會有28nm的光刻機交付，國產儀器正在邁著大步追趕。現在
使用的光源是波長為193nm的光源，正在研製的28nm光刻機是屬於第四代光刻機，而荷蘭ASML在量產的第五代光刻機用的光源波長是13.5nm的。
為什麼光刻機制造這麼難？
曾經有一年，上海微電子裝置公司的總經理遠赴德國考察光刻機技術，沒想到那裡的工程師對他說，就算我們給你們全套的圖紙，你們也做不出來先進的光刻機。
為什麼他們敢這樣說？難道我們14億中國人還比不過幾億人口的歐洲人？其實並不是瞧不起，而是因為一臺光刻機是由幾萬個精密零件，幾百個高精度的感測器，幾千萬行程式碼組成的複雜思維機器。它的內部器件運動精度誤差不超過一根頭髮絲的萬分之一。
有一句話是這麼說的：光刻機堪稱人類智慧集大成的產物，它被稱為現代光學工業之花。從這一句話就可以知道，光刻機技術有多難突破。
光刻機最值得讚歎的，就是它科學門類整合程度很廣。根據相關專家披露，製作一臺光刻機，需要整合十幾門學科的頂尖智慧，據我所知，至少有數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟體、影象識別的等學科的知識。
另外，ASML光刻機採用了多個國家的頂尖技術與硬體，例如德國給它提供了先進的機械工藝以及蔡司鏡頭，而在光刻機光源方面，是由美國進行提供。蔡司鏡頭大家都知道，技術封閉相當的嚴重。據說蔡司工廠，祖孫三代在同一家公司的同一個職位，技術根本不外傳，鏡片材質要做到均勻，需幾十年到上百十年技術積澱。因此，可以說世界上沒有任何一個國家能夠獨立地製造光刻機。
中國的機遇
在華為遭遇到制裁之後，國內半導體企業也開始發力。最近，中芯國際又傳來了一個好訊息，11臺DUV光刻機，ASML公司生產的，已經交貨了。
當前，全球正遭遇一場缺芯危機，這對中國晶片企業來說，是一次不錯的機遇。如今，中芯國際正積極擴產之中，對半導體裝置的需求量增加。在國產晶片加快腳步的關鍵節點下，中國大陸企業非常及時地買下了11臺荷蘭ASML光刻機，可謂是意義重大。目前，中芯國際正在推動7nm試量產。DUV光刻機的到來，將使得中芯國際攻克7nm的成功率更高。雖然7nm生產用EUV光刻機最佳，但臺積電已經證明，DUV光刻機其實也能製造7nm晶片。因此，ASML光刻機的帶來十分及時。在去年10月份時，ASML首席財務官羅傑·達森曾表態，ASML可以直接從荷蘭向中國出口DUV光刻機，而不受美國的管制。
早在2018年，中芯國際就宣佈了14nm工藝研發的成功，時隔一年，又有一個好訊息，12nm工藝研發成功。而在2020年的時候，華為宣佈麒麟710 A晶片研發成功的好訊息，這個晶片很特別，沒有美G的技術，100%純國產。晶片設計是華為負責的，而晶片代工則是由中芯國際代勞。各家公司的共同努力使我們的晶片製造行業看到了黎明前的曙光。
總結
探索晶片，解決全球晶片危機的問題是擺在中國晶片企業眼前的問題，雖然前進的道路上會有很多困難，但是相信在政府的大力支援和各個公司的共同努力下，我們很快就能夠擺脫現在的困境，不再看別人的臉色。授人以魚不如授人以漁，掌握晶片技術的我們，終將取得完全的勝利。
Geek視界2020-01-19 20:48:43光刻機的難點是“技術封鎖”，光刻機的關鍵部件來自不同的發達國家，美國的光柵、德國的鏡頭、瑞典的軸承等，關鍵是這些頂級零件對我國是禁運的。我國的中芯國際早在2017年就預訂了一臺ASML的7nm製程工藝的光刻機，由於很多原因，至今仍未收到貨，可以說“有錢也買不到”。
光刻機的技術難度
目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭的ASML，佔據了全球80%的市場份額，而最先進的EUV光刻機只有ASML能夠生產，光刻機的技術門檻極高，是人類智慧大成的產物。
ASML光刻機90%的零件來自對外採購，德國的光學裝置，美國的計量裝置和光源裝置，而ASML要做的就是精確控制，7nm EUV光刻機有13個系統，3萬個部件，動作要非常精準，將誤差分散到這13個分系統中。
奇特的合作模式
ASM還有一個非常奇特的規定，
只有投資了ASML，才能獲得優先供貨權
，也就是說自己的客戶需要先投資自己才行，這種合作模式ASML獲得了大量的資金，英特爾、三星、臺積電、海力士在ASML都有可觀的股份。因此，光刻機本來就供不應求，ASML未來幾十年的訂單早已被預約完了。
瓦森納協定
西方有個《瓦森納協定》 ，我國只能買到ASML的中低端產品，出價再高，也很難買到高階裝置。
中芯國際早在2017年就預訂了ASML最新的7nm製程工藝的光刻機，先是由於失火，導致訂單後延，然後是因為美國方面的干擾，搬出了《瓦森納協定》阻撓ASML向我國出售最先進的光刻機。
我國的光刻機
我國生產光刻機的廠商是上海微電子，主要集中於低端市場，穩定生產90nm及其以下的製程工藝，距離ASML的7nm製程還有很大的差距。
雖然，上海微電子還未能夠在高階光刻機市場有所突破，但是從無到有，在低端光刻機市場佔據了壟斷地位，所以上海微電子是值得大家尊敬的。目前，上海微電子正在向高階光刻機方向發展，據說已經突破了24nm製程工藝的關鍵技術，利用低端市場所賺取的利潤，去支援高階市場研發，是可行的路線。
總之，“自己有的才是真的，只有突破了技術，才能不被卡脖子。”美國針對華為的種種行為，充分證實了這句話。
如果覺得對你有幫助，可以多多點贊哦，也可以隨手點個關注哦，謝謝。
極客談科技2020-01-20 15:47:18“極客談科技”，全新視角、全新思路，伴你遨遊神奇的科技世界。
晶片產業大體上可以由上、中、下游三個產業鏈來囊括，上游指的是晶片的研發裝置公司，蘋果、華為、高通等公司是典型的代表；中游指的是晶片生產類的公司，下游指的是封測和組裝公司。光刻機的生產公司屬於中游，其中比較著名的就是荷蘭的ASML公司，幾乎壟斷了光刻機市場80%的份額。
那麼，光刻機技術究竟有哪些難點，為何ASML公司能夠一家獨大？我國當前有哪些製造光刻機的公司呢？
製造光刻機的技術難點
我們先來簡單的瞭解一下光刻機工作的技術原理。當我們製作晶片的時候，電路圖經過光刻機投放至底片（塗滿光刻膠的矽片），光刻機不斷蝕刻掉光刻膠，露出矽面之後做化學處理，不斷反覆的蝕刻，直到晶片製作完成。
這裡面有兩點要求較高，一個是光刻機的中心鏡頭，一個是光刻機的光源。
大家應該知道，ASML公司光刻機的鏡頭來自德國蔡司，光源由美國CYMER公司獨家提供。光刻機的中心鏡頭對於鏡頭要求較高，需要高純度透光以及高拋光，能夠達到這一標準的公司並不多（光刻機工藝製程越高，要求也就越高）。鏡頭的打磨對於匠人的技術要求等級較高，並非是工業化能夠解決的問題，需要十幾年甚至是上百年的技術沉澱。光刻機光刻機，對於光源的要求更是重中之重，需要體積小、功率高、穩定性強的光源（這也是制約我國光刻機向高階進軍繼續解決的難題）。
除此之外，光刻機的工作臺、侵液系統的技術難點依然較高。
國內能夠製造光刻機的公司
能夠製造光刻機與實現晶片代工生產是兩個概念，這裡面有兩家公司不得不提。其中一家是上海微電子裝備公司，另外一家便是中芯國際。
上海微電子裝備公司是國內光刻機生產製造公司，生產的SSX600系列光刻機可以實現90nm的工藝製程，與ASML公司5nm工藝製程的光刻機確實存在不小的差距。再來說說中芯國際，這是一家晶片代工公司，當前已經具備了14nm工藝製程能力，12nm也進入了測試階段。值得說明的是，中芯國際花費1。2億美元從ASML公司預定了一臺光刻機，預示著我國晶片代工即將挑戰7nm高階工藝製程。
雖然即將具備高階晶片代工的能力，但是依然無法掩蓋我國光刻機生產的落後局面，國產芯的發展之路依然艱辛！
引申閱讀
光刻機發展較為滯後，確實會使得我國晶片產業受制於人。
例如，最近臺積電削減華為晶圓產能20%訂單的事情，或將會導致華為痛失高階旗艦手機市場20%份額。臺積電的藉口是看到華為庫存較高，擔心會產生風險才會取消訂單（個人覺得與美國的施壓不無關係）。哪種原因導致臺積電削減華為訂單我們不做過多猜測，但是這裡卻透露出一個不好的訊息！
臺積電並不會因為華為訂單的缺失而導致利潤下降（蘋果、高通補齊訂單），華為卻會因為臺積電而受到較大的影響！
對於我國半導體晶片的發展現狀，您怎麼看？
歡迎大家留言討論，喜歡的點點關注。
東風高揚2020-01-19 17:49:14光刻機技術的難點是什麼？中國有沒有能造光刻機的企業？精密的高階光刻機是現今整合度越來越高的晶片製造所需要的，比如7nm/5nm製程的晶片。然而對於我們來說現實有些殘酷，雖然我們有企業可以製造中低端的光刻機，卻製造不了像ASML這樣我們所需要的7nm EUV高階光刻機、連購買也成為了問題，直到現在還在和ASML交涉前兩年中芯國際花費鉅額資金預定的一臺光刻機。
目前我國能夠生產中低端的光刻機，而且在中低端市場份額佔據不小，並且生產的中低端晶片份額也算不小，
最突出的就是上海微電子裝備（集團）股份有限公司
。但是生產如手機所需7nm、5nm這樣的晶片，國內光刻機的製程差距就顯得較大了，國內效能領先的光刻機是上海微電子SMEE僅達到90nm。而像ASML早已經進入7nm、5nm製程的光刻機。
所以國內晶片製造企業一直在竭力想要引進高階的光刻機，但這又被ASML所壟斷。中芯國際早在兩年前就花費1。5億美元向ASML預定一天7nm EUV工藝的光刻機，本來預計2019年年初交貨，卻因為各種各樣的原因被拖到現在，依然沒有交貨。透過國家層面的交涉，來自ASML最新的訊息是：
“未來ASML將會繼續和中國合作，不管有沒有銷售許可證，ASML都希望能夠繼續向中國銷售供應光刻機。”。
也許中芯國際的這臺高階光刻機將會很快到來，並且華虹半導體也有望獲得高階光刻機。
為何ASML會如此忸怩作態不願及時交付7nm的光刻機呢？一個是源於ASML受西方針對我們泡製的《瓦森納協定》控制，對我國實行高科技的限制性封鎖。也就是說，如中國在某一領域有所進展，則相關技術解禁一層。比如我們有90nm的光刻機，ASML就只對我們開放75nm的光刻機。另一個緣於美國的打壓，也就是現目前如果ASML光刻機中美國的技術佔據25%，那麼ASML就要受到美國的管制而不能出口。
光刻機的技術特別是其零部件技術和產品，具有相當的高難度。其組成的3萬多個部件都要相當可靠才行，這其中有很多的技術難點需要解決，比如能量控制器、透光器、掩膜版、鐳射器等等。比如：曝光系統，需要頻率穩定能量均勻的光源，但這個光源我們自己造不了但又從外部得不到，這個光源被美國的極紫外光龍頭公司Cymer所掌握（後來被ASML收購）；又比如為了保證光透過物鏡不變形而所需的要求極高的鏡頭被德國蔡司所掌握；還有軸承、閥件等等，這些精密的部件都需要依靠國外進口而得來，但卻被別人禁運，我們製造的部件又達不到如此精密。
所以到目前我們的光刻機還不能滿足現在像7nm/5nm這樣所需的高階光刻機，只有依靠向ASML採購。不過現在國家和社會越來越注意到這個問題，想比像上海微電子這樣的國產光刻機公司會迎來快速發展，擁有自己的國產高階光刻機應該不是夢。
更多分享，請關注《東風高揚》。
萊蕪實在人2020-01-19 18:22:32把國足解散，養國足的錢聘請一位頂尖級光刻機專家，不出兩年，我們就是專家，這個很光榮，比花錢買恥辱強了多了
龍的傳人Original2020-09-21 21:14:32看過程式小腿腿關於光刻機的介紹，很有啟發。下面談談不才我的關於光刻機的追趕小辦法：
（前提，充分利用國產蝕刻機5納米制程技術：由上海中微公司歸國的尹志堯團隊打造的國際一流蝕刻機。並且這種蝕刻機還要儘可能採用國產化實現。）眾所周知，由於5納米制成的蝕刻機和光刻機，這兩種裝置的行走精度幾乎一致，那麼
追趕構思可否這樣進行，在此略略展開一點供各路大家和專家們審查
和探討：1。如果蝕刻機的頭子與光刻機的頭子能夠無精度差的互換，那麼後期工程量將主要聚焦到光源（DUV和EUV上）和鏡頭上。2。蝕刻機和光刻機的軟體程式肯定也有差異，這也是要公關的。3。未來晶圓的加工大致是：塗上光刻膠，讓換上光刻頭的原始蝕刻機在新程式配合下
，完成原光刻機的工作，然後再換下光刻頭並恢復成蝕刻機再工作一遍
。一句話：用移動精度一致的蝕刻機
在替換上光刻頭（DUV or EUV 和鏡頭）和準備好光刻程式，那麼一臺
改造後的蝕刻機是否真能夠完成
光刻機和蝕刻機的5納米制程呢？
敬請老中青和各路專家前往一試吧
。2020。9。21
靈武小崔2020-01-26 10:06:07光刻的原理是透過在矽片上塗沫光刻膠，再經過紫外光透過掩摸照射光刻膠，Mask上印著預先設計好的IC電路圖案，光刻過程中曝光在紫外光線下的光刻膠被溶解掉，清除後，留下的圖案與mask上的一致。再用化學溶劑溶解掉暴露出來的晶圓部分，剩下的光刻膠保護著不應該蝕刻的部分。蝕刻完成後，清除全部光刻膠，露出一個個凹槽。當然了，這些工序還遠遠未結束，還需要摻雜填充金屬物質作為導線，需要反覆再多做幾層結構，做好並校驗與掩模一致後，才能切割和封裝。
可以說中間經歷的所有過程都是奈米級的過程，以我國現有的工業裝備和精密度製造行業來看還相差太遠，這不是短短几年就能突破的問題，保守估計再有30年未必可知，荷蘭的AMSL公司是世界上光刻機制造最先進的企業，其應用的極紫外光光刻技術成為了現在光刻機的主流技術。
其中應用的EVU軟X光，在船頭物質的過程中需要超級強的光源，想要創造出這種超級強的光源是非常有難度的，因為散射光源連空氣都能吸收，因此機器內部就必須要做成真空狀態，傳統的光刻機想要實現這個超強光源，避免光纖被吸收只能透過反射鏡將光源再集中，有的光刻機光反射鏡都需要幾頓的重量才可以實現，而EUV對光的集中度要求是非常高的，
反射的要求是長30CM起伏不到0。2nm，這相當遠幾千公里的鐵軌起伏不能超過幾毫米，
可想而知這個精度有多嚇人，而我國在精密儀器製造方面的確差距甚遠，這個路還要很多年才能實現。
包括前階段所說的我國9nm樣機問世的這種訊息
，其實真實的請款是9nm解析度是真實的，但是對國內光刻機的研發貢獻非常有限，因為從實驗室理論實現到量產裝置的研發成功相差實在太遠。實現高解析度光刻和是否可以應用於晶片製造又有很大差異，很多實驗室所能實現的超解析度都是完全規則的圖案，也就是說實現的解析度都是橫平豎直的樣子，但是大部分的電路其實都想我們普通看到的電路那樣彎彎曲曲的，因此現階段我國的各種技術突破大都停留在實驗室階段，想要應用到實際生產製造方面真的還不行。
另外，在光刻機系統中，除了光學系統以外，還有大量的機械運動系統，測量系統，控制系統等等，因此就算是光學系統上突破，和ASML的差距依然還是十分巨大的，因此光刻機的製造困難遠遠不是我們自己想想的那樣，其中富含的技術難點和突破點還有待於我國科學家去研究、去突破。
遍地黃金8882020-01-19 12:00:02荷蘭光刻機制造公司ASML（阿斯麥）是世界唯一技術最精堪的晶片光刻，一臺相當十多億人民市，荷蘭與中國經貿關係向來不錯，作為高階科技裝置賣給中國獲取經濟收益是再正常不過了，荷蘭也佩服中國的晶片技術非常先進、特別是當中國5奈米晶片製造團出好訊息，荷蘭方面表示儘快評估美國對其警告和施壓帶來風險。
說起來中國晶片的發展，估計大家還是一籌莫展，倒不是我們設計不出來高階優秀的晶片，而是在晶片製造中，有著兩個非常關鍵的裝置，一個是刻蝕機，一個是光刻機，刻蝕機我們也是剛剛獲得突破不久，而光刻機，我們的差距太大，這倒不是我們能力不行，主要還是在這方面發展得太晚，更何況，人家是經過上百年的技術累積的結果，在尖端光刻機方面，整個世界，也就是荷蘭的ASML一家獨大！大家都知道荷蘭的高階電子科技工業是歐洲乃至世界一支獨秀，六七十年代極具發燒級音響功放讓世人震撼，聞名於世。光刻機毫不誇張的可以說是世界工業體系百年積累的結晶，整個機器需要三萬餘個零件，每一個零件都不能有絲毫偏差，一絲一毫的偏差都不能使千萬的電路一絲不亂，毫無偏差的分佈在指甲蓋大小的晶片上面，我國在上面要走的路還很長。儘管中國著手成功製造出國產光核機，儘管與荷蘭等先進西方國家存在很大差距，但這是一個良好開端，具有里程碑的意義。
柱柱1689488462020-01-19 12:08:35光刻機技術再難，中國人肯定能突破，原子彈難不難，中國在60年代一窮二白的時候能突破，只要國家需要，這只是小菜一道
LeoGo科技2020-01-19 18:23:36感謝您的閱讀！
我們被卡住了脖子，而荷蘭的ASML似乎一直在“戲耍”我們。用“失火”延期交付，後又傳美國從中作梗，不發放的極紫外光光刻機（EUV）銷售許可證，所以，導致了ASML壓力過大，將交給中芯國際的極紫外光刻機（EUV）一推再推。
在《瓦森納協定》中，1334號法令共8章22條，規定了出口控制的範圍，其中半導體就屬於禁止出口的一種。
所以，在這種協定的壓力下，我們一直不能夠獲得最新的技術，包括的就有荷蘭ASML的光刻機，也屬於限定的範圍。
時至今日，我們的光刻機為上海微電子的90nm光刻機，而中芯國際和華虹目前量產了14nm工藝製程的光刻機，但是7nm以下必須用EUV。
那麼，到底為什麼中國的光刻機發展不起來呢？到底難點在什麼地方呢？實際上，根據光源和發展前後，我們將光刻機依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）、極紫外光源（EUV），光源的波長影響光刻機的工藝。
實際上，光刻機的難度是因為技術，從EUV光線的能量、製程的所有零件、材料，都在不斷的挑戰人類極限。
在光刻系統中的，如果想達到更好的工藝，更高階的技術，就必須採用輔助的多重曝光（Multiple Patterning，MP），而且成本更高一些。
雖然說現在限於技術，以及協議等等，都會影響光刻機的發展，但是，我們必須要知道，最近我國武漢光電國家研究中心成功研發出9nm線寬雙光束超衍射極限光刻試驗樣機，一旦這種情況得以突破，未來我國將會走出一條不一樣的路，打破這種禁錮！
Lscssh科技官2020-01-20 09:44:24看了不少題主的回答，很多人都提到了當前光刻機難點核心是外部技術封鎖，這點個人並不能苟同。技術封鎖的因素的確存在，但更為核心的其實還是我國整體材料學和製造業的落後，這才是真正的主因。
我國有光刻機生產企業但水平落後：
我國當然是有光刻機生產企業的，而且還很多，只是整體制造水平不行，相比先進的光刻機差距很大。目前國內水平最高的光刻機廠商是上海微電子，目前量產的光刻機是90nm。按照量產一代，試製一代，預研一代的進度，現階段已經在完成了65nm光刻機的試驗，正在研發攻關28nm光刻機。
上海微電子雖然
整體水平落後，但從成立至今18年來一直在持續努力追趕中。
光刻機難造的核心是材料學無法突破：
目前全球範圍內其實沒有任何一家企業有能力獨立製造一臺光刻機，荷蘭ASML也不例外，想要造一臺光刻機至少需要幾萬個配件，因此涉及到的廠商其實非常眾多。
不管是ASML，還是日本的光刻機廠商尼康、佳能，以及我國的上海微電子本質都是光刻機系統製造商，他們都需要全球範圍內各配件廠商給提供合格的配件才能生產出一臺光刻機。
因此，困擾我們無法生產高階光刻機的其實還是這些配件廠商。我這裡就拿光刻機的主要子系統也就是曝光光學系統和超精密工件臺來大致聊聊。
1、曝光光學系統：
涉及到光學領域的技術，這塊我國其實一直很難突破。而荷蘭ASML所使用的鏡頭是德國的蔡司，對於這家廠商我想玩攝影的應該都清楚他在業界的實力，全球頂尖的光學、光電企業。而日本的兩家光刻機生產廠商大家也耳熟能詳，也就是尼康和佳能，在光學領域都是一頂一的好手。有這樣的光學技術在手，那麼整個光學系統以及對應的鏡頭就能很好的得到解決。
2、再來說說超精密工件臺：
前面提到上海微電子已經完成65nm光刻機的試驗，這裡非常關鍵的一點就在於我國現在能自主生產滿足65nm光刻機使用的雙工件臺（見下圖），這家企業叫華卓精科，是全球第二家能自主研發生產雙工件臺的企業。如果說，沒有這家企業的出現，掌握自主的技術，那我們65nm光刻機的進度或許會更慢一些，你採用外國的裝置很難說不對你進行阻擾。
綜合來說，光刻機自身的研發難度的確非常大，但是一臺機器是有各種子系統組成的，如果說各個子系統的核心部件我們都能掌握，那麼整個光刻機的研發難度就會大大下降，受到所謂的外在技術封鎖的可能性就會越小。
Lscssh科技官觀點：
因此，對於光刻機的難造，我們更應該明白背後這些真正的難點，當我們哪天的製造業，材料學等技術全面取得突破提升時，這光刻機也就相對不難造了。其實不光是光刻機，包括航空發動機等領域也是類似狀況。
現在，就全球範圍而言，只要我國能生產的裝置和配件，國外企業基本上都會放開限制，只要我們無法做到自主研發生產的，或多或少都存在各種封鎖，這就是我國當前的現狀。
感謝閱讀，給點個贊鼓勵下唄，歡迎關注【Lscssh科技官】，謝謝~~
帆辰科技2020-01-20 19:53:08帆辰科技專注於科技資訊，帶你遨遊科技世界！
光刻機的技術難點在哪裡，中國有沒有能夠全自主的造出光刻機的企業，其實中國的企業來說，目前是可以造出光刻機的，但是最先進的7奈米工藝的光刻機目前還是有一定的差距。
上海微電子經歷17年的風雨艱辛，才造出90奈米的光刻機
我們現在使用的智慧手機裡面有一個非常重要的核心元器件——處理器！
而光刻機就是製造處理器的最為重要的裝置之一，但是能夠製造光刻機的企業關鍵性技術全部掌握在荷蘭的ASML公司手中，可以說對於光刻機的技術已經有壟斷的存在了
外部的企業是很難從這家企業獲得一定的關於製造光刻機的技術的，那麼我們也可以瞭解一下關於光刻機的技術究竟難在哪裡？
光刻機現在被分為前道光刻機和後道光刻機這兩種不同的方式，而真正具有難度的就是這個前道光刻機的製造技術。
在2002年的時候，上海微電子公司的總經理在德國考察的時候，德國的工程師說了這樣的一句話：
給你們全套的圖紙，也做不出來
可以說這樣的話也從側面說明製造光刻機的難度係數是非常大的，也被稱之為光學工業的明珠，所以說光刻機的製造程度很難，能夠說是人類的集中大智慧的產業和產物所在。
光刻機的難度主要體現在底片的製造，是用塗滿光敏膠的矽片製作而成，這個工藝就非常的複雜，需要認為重複幾十遍才可以製造而成。
還有就是光刻機的鏡頭，據說是使用蔡司的技術打造而成的，而且所需要的時間都是幾十年或者上百年才可以完成。
這些還不是真正最難的部分，而真正最難的部分還是屬於光源系統的來源，這也被稱為整個光學工業中的明珠所在。
而ASML的頂級光刻機，使用的頂級的鏡頭還有頂級的光源，這個都是工藝和機械製造上的極致所在，要求也是非常的嚴格的，比如說生產光刻機的鏡頭要求就不能超過2奈米的誤差，大家可以想象一下是2奈米的誤差啊，這對於工藝的要求是非常嚴格的。
而在國內能夠生產光刻機的企業也是寥寥無幾的，在2002年的時候，由科技部和上海市共同成立上海微電子裝備公司，可以說這家企業的出現，在國內的光刻機生產空白頁上填補上了。
但是即便能生產光刻機，其能夠生產的製程也是非常的落後的，人家都能夠生產最先進的7奈米工藝的光刻機，而我國才剛突破90奈米的光刻機，這裡面的差距還是非常大的。
現在我們國家也是非常重視科技領域的積累和突破，而且還正在不斷地加大里面地投資力度的，所以我們在光刻機裡面的生產工藝也是會不斷進步的，那麼大家還有什麼不同的看法，可以在下方留言，咱們一起探討！
肇俊武2021-01-20 16:18:38我回答的題目是：
7奈米光刻機技術難點
也已被知曉而且也已被攻克
“光刻機技術的難點”？
是技術自身或者叫技術內部存在的難點，自身或內部固有的、天生的。
光刻機技術的難點已早為人知
。無非是鏡頭、光源，等等。難點眾多，都與光刻機技術的誕生俱來，在製造光刻機的過程中全部無法繞開，從“教科書”中就能查到。
關鍵在於光刻機技術整體難度很高
。居然跟航空發動機一起被稱為“人類工業皇冠上的明珠”，致使光刻機制造成為晶片業諸環節當中技術難度最高的一環，高過所有的其它環節很多，被視為積體電路製造最重要的核心裝備、人類有史以來最精密複雜的裝置之一。這也許是已製造出光刻機的企業和國家至今仍然非常稀有的主要原因之一吧。
國內外已造出光刻機企業一定共知光刻機技術的整體難度很高和具體難點很多
。都更為清楚，接著全都研究明白了，所以才造出了光刻機。荷蘭的ASML公司肯定知道得最為清楚、研究得最為明白，不僅洞察了低端、中端和高階光刻機技術整機的整體難度和具體難點，還洞察世界頂級的了，是迄今為止世界上唯一 1 家全面洞察的企業，而其分佈在美國、德國、法國、瑞典、日本等國的配套企業，則分別連世界頂級光刻機所必需的世界頂尖部件技術整體難度和具體難點都洞察了。目前為止，世界頂級的EUV光刻機是被荷蘭的ASML和前述國家的配套企業給完全攻克了。中國則是依靠本國的整機技術整合企業上海微電子和部件技術配套企業的合作，已經攻克了低端光刻機的技術難點，中端光刻機的技術難點應該說也已經攻克，正在做交付首臺中端整機的努力。
成功的實踐充分表明，光刻機技術儘管整體難度很高而且難點眾多，但還是被他們那多個國家和我們這一個國家的相關企業共同“由低到高”地給攻克了，已經達到的實際高度倒是大不相等
。現在，那多個國家的企業正在對5奈米光刻技術開展攻堅，我們這個國家的企業一定正在或者已經開展面向更低奈米工藝節點的預先研究，假以時日，必定也能攻克高階光刻機的技術難點。
光刻機技術的難度和難點在中國晶片業由國外尤其由美國所致大變局的今天可以說已經被國內網給廣泛普及了
。更多的國人還因此而更加清楚了國內晶片業發展的歷史和現狀，特別是與世界頂級光刻機的差距，惋惜、遺憾、焦急的情緒交織，又深入瞭解了並且持續關注著國內光刻機制造業的龍頭老大上海微電子，為其和配套廠共同在2018年造出了國產的90奈米光刻機而感到欣慰，正在提前為其即將推出的國產28奈米光刻機感到高興，
當然，也從國內網上聽到了存在已久、仍在迴盪的一種聲音，說國內光刻機制造在積體電路產業鏈上是我國與國際先進水平差距最大的環節
，即最短的短板、最大的瓶頸，
這種說法對嗎？肯定不對，
因為只是說到了中國光刻機的低端化和中端化，卻沒有涉及到同時存在的國產化這個固有的難度和難點，也就沒有說出中國一國造出低端和中端光刻機“難上加難”這個特點，在國內晶片業各環節中是已經獨具、唯有這個特點的一環；更沒有考慮到無論低端還是中端都已經實現了國產化，在國內晶片業各環節中是唯一的一環。
科技之重2020-04-30 12:30:21想知道光刻機的製造難點在哪裡，還得從晶片的製造過程說起！晶片的製造的大概過程是：晶片設計，晶片製作，封裝製作，測試。而最難的步驟就是晶片製作，這個過程就需要先進的光刻機了。但是呢，紫外光源又分為極紫外EUV，深紫外DUV，紫外UV，可見光。從上到下波長依次增大！由此可知，極紫外光EUV的波長最短，所以說使用極紫外光EUV做為“刻刀”的光刻機解析度極高，所以才能有7nm，5nm製程的晶片出現。
而光刻機主要是由測量臺，曝光臺，鐳射器，光束矯正器，能量控制器，遮光器，能量探測器，掩膜臺，物鏡等組成。即便是阿斯麥製造的光刻機，也是採購德國的蔡司公司的鏡頭，美國Cymer公司的光源。可以這樣說，阿斯麥製造的光刻機是集全世界的先進技術於一體。此外，對於一些特殊的介面，需要用極其精密的儀器打磨，除錯上百萬次。
首先來說，光刻機需要的鏡頭誤差必須控制在奈米級別，而能夠製造出這種鏡頭的國家是鳳毛麟角，德國的蔡司公司就可以製造出這樣的鏡頭。還有比較重要的光源發出器極紫外光EUV，這個晶體也是難以製造的。此外就是機械部分，驅動機械，轉軸機械部分都需要極高的精細度，製造這些機械裝置就需要超精密機床，而機床則掌握在德日等國的手中。還有就是整個控制系統軟體的編寫，這個難度也比較大。如何防止光刻區的產生電磁輻射等等。由此可知，想要一個公司，不依靠外援全部搞定以上這些超精密儀器，那難度可想而知。別說一個公司了，就算一個國家也難以搞定。畢竟光刻機涉及的領域太多了，50000多個超精密部件根本就不是一個國家所能解決的。
其實光刻機需要的光學鏡頭的製造難度就比較大，需要高質量的合成石英玻璃，別小看這塊玻璃，製造這塊玻璃需要去應力，去氣泡條紋，提純度等。另外就是超高球面型精度鏡片的加工，必須要保證加工精度。
還有就是必須的發光晶體。事實上，關於KBBF晶體，我國則是領先世界的，估計是不缺乏這個部件的。那麼，我國光刻機應該就是被像鏡頭，軟體系統，機械部件攔住了。
而我國也具備製造光刻機的實力，只不過製程工藝不如阿斯麥的光刻機。我國是由上海微電子研製的14nm製程的光刻機，目前已經經過專家的驗收和測試了。而武漢光電所已經研製出9nm製程的光刻機了，我國光刻機技術只會與國際先進水平越來越近，總有超越的一天。
無法超越的足跡2020-01-19 15:18:02光刻機技術就好比航空發動機技術一樣，航空發動機是軍事方面產品，光刻機是民用方面和軍用方面結合的產品，都是科技工業的最高水平的體現，甚至某些方面來說光刻機的要求比航空發動機還要高階，光刻機是現代科技必不可少的產品，航空發動機是軍工方面的明珠，兩者之間的地位相當，都是代表一個國家的最尖端科技水平。
世界上最牛逼的光刻機當然是荷蘭的，而荷蘭的這一家公司生產的光刻機並不是自己一國之力的結果，而是世界上幾十個國家共同努力的結果，世界上有能力自己研製光刻機的國家不超過五個，其中就有日本和美國再加上我們中國，歐洲有獨立研發的可能只有德國有這樣的技術，但是能做到自己獨立完成的並不容易，多多少少都會涉及到一些進口零部件，不只是我們，就算是美國日本也一樣。
光刻機的難點在一整套系統流程下來的難度，光刻機涉及到機械學，化學材料學，光學物理等方面，想要做好光刻機，那上面這些基本上都要涉及到，當然這裡面最難的就是穩定的光源，這個對我們來說現在已經解決，因為我們的鐳射技術世界頂尖，下來就是鏡片鏡頭，這個材料自然非常特殊，而且這不是最難的，最難的在鏡面平整度的加工上面，這個跟移動工作平臺一樣涉及到精密機床技術。
移動工作平臺的要求也是非常高的，機械加工方面需要非常精密的機床才可以，而且裡面涉及到各種材料學在裡面，所以這個也是絕大多數國家做不到的，單獨某一方面可以沒用，需要的是這些所有方面都比較厲害才行，屬於系統性的製造工藝，這不是某一個公司能有這樣的能力，而是一個國家是否有這樣的能力，我們國內有這樣牛逼的企業，上海微電子裝備集團有限公司就是這樣的企業，我們國內的光刻機研發是國家發起的，屬於科研專案是一個研究所團隊，企業只是這個團隊的一種形式。
我們國內的光刻機最高只能做到14奈米級別，還是前不久剛剛透過實驗研發成功的，離第一梯隊的7奈米，甚至5奈米還有好長的路要走，不過我們起步晚，而且還是靠自己的力量沒有外援，能做到這樣真的非常不錯了，當然最主要的基礎物理方面的問題，打好基礎才是發展高階技術的根本。
科技數碼隨時答2020-01-20 10:24:46感謝邀請
光刻機技術的難點是什麼？中國有沒有能造光刻機的企業？
題主問題的核心是光刻機的技術難點是什麼？中國有沒有可以早光刻機的企業？光刻機的難點總體來說的話，三個方面，第一個是精密度的問題，第二個是供應商的問題，因為我們知道光刻機中需要的零件高達3萬個，第三個是需要高階人才，接下來我們會來詳細說一下，而中國有沒有可以製造光刻機的企業，這個答案是肯定的。我們下面來詳細的說說這個問題：
一，光刻機技術難點在於什麼？
我們都知道現在光刻機雖然有很多，但是荷蘭的ASML公司佔據了70%的市場，而日本和尼康和佳能雖然也可以製造，但是市場份額確實很少，比如在2017年全球晶圓製造用光刻機臺出貨294臺，其中ASML就出貨198臺，佔全球近7成的市場。其中EUV光刻機11臺，ArFi光刻機76臺，ArF光刻機14臺，KrF光刻機71臺，i-line光刻機26臺，而佳能出貨量為26，而佳能也只有70臺。當然到了2018年依然是如此，雖然全年的出貨量很大，達到了374臺，但是從型號來說EUV、ArFi、ArF機型的出貨來看，全年共出貨134臺。其中ASML出貨120臺，依然是佔據了很大的市場。
為什麼光刻機這麼難於製造呢！
1。工藝。
說實在的光刻機每個部件的工藝難度都很大，而現在瓶頸主要集中在透鏡、掩膜版、光源、能量控制器。我們就拿光源來說，光刻機的光源目前主要有：鐳射，紫外光、深紫外光、極紫外光。現在最先進技術是極紫外光，而從光刻機的結構和工作原理來說，光源的重要性不言而喻。
我們知道在製造晶片時，首先需要在晶圓（矽晶片）表面塗光感膠，再用光線透過掩模版（相當於晶片電路圖紙的底片）照射矽片表面，被光線照射到的光感膠會發生反應。此後用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠，電路圖就印到矽片上。
這個過需要用到的鏡片，確實對於工藝的要求很高，鏡片的高純度透光材料+高質量拋光。而ASML的鏡片是蔡司技術打底，鏡片材質做到均勻，需幾十年到上百年技術積澱。這也是為什麼說佳能和尼康，我們一直認為他們是做相機的，但是現在為什麼可以做光刻機的原因。因為光刻機跟照相機差不多，它的底片，是塗滿光敏膠的矽片。當然這其中就有包括了剛才提到的地掩膜版，以及能量控制器。
2。供應商的問題和人才的問題。
這個問題其實和我們文章開頭說的一樣，精密度和供應商是分不開的，我們剛才說的頂級鏡片和光源其實是第一部，而第二部就是精密度的問題。光刻機裡有兩個同步運動的工件臺，一個載底片，一個載膠片。兩者需始終同步，誤差在2奈米以下。而且對於環境要求也極為嚴格，比如溫溼度和空氣壓力變化會影響對焦。“機器內部溫度的變化要控制在千分之五度，得有合適的冷卻方法，精準的測溫感測器。”所以零件有一點誤差都不行。
我們知道這樣的誤差精度，確實需要高精尖的人才才能做到，以及包括我們知道光刻機分為13個分系統，3萬個機械件，200多個感測器，每一個都要穩定，而且就像我們剛辭說的溫度溼度，以及對於2nm的誤差這些要求，確實對於一般人來說是做不到的，所有這方面的人才奇缺也是重要的一個原因。
小結。
光刻機的原理雖然看似簡單，但是實際工藝所需要的部件要求很高，包括我們知道製造工藝方面對於技術以及誤差，還有人才的要求等等，全方面來看的話，製造光科技的確實不容易。
目前中國光刻機的企業有哪些：
如果說最厲害的就是當屬上海微電子啦！成立於2002年的它，是中國第一也是唯一一個光刻機廠商。該企業所製造的光刻機主要集中於90nm及其以下的晶片工藝製造，不過我們知道現在手機晶片已經來到了EUV的7nm工藝，所以這個差距還是很遠的。的
而中芯國際和華虹目前量產了14nm工藝製程的光刻機，但是目前來說還不是很穩定而且我們知道的是有《瓦森納協定》的規定，雖然中國有向ASML訂貨7nm的光刻機，但是因為某些特定原因遲遲沒有交貨，所以我們目前也是止步於此。
總結：
光刻機的技術嚴格來說，確實算是高精尖的產業，而且我們知道ASML也是一家各個企業入股的公司，就是你如果想要我的光刻機那就要入股，所以才有了現在的成就，所以對於各個方面的要求都很高，而國內目前上海微電子的雖然很不錯，但是工藝有差距，而中芯國際的14nm目前還趨於穩定，而7nm的工藝，這個確實是目前做不到的，所以也只能依賴進口，但是因為ASML，以及協議的一些規定，目前還沒有交付。
回答完畢
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惠忠說科技2020-10-28 22:51:53光刻機是製程晶片的關鍵裝置，堪稱半導體高新技術整合的傑作。以荷蘭ASML的EUV光刻機為例，它整合全球三千多廠家提供的10萬多高精尖的零部件和高新技術裝置。
在這個製程晶片的系統裡面，光源計量、光刻技術、透鏡工藝是核心內容，充分體現了光刻機各技術和裝置精密控制的難點。
一、先進的光源、光刻技術、透鏡工藝離不開精密控制。
1、荷蘭ASML的EUV採用美國Cyme研發的13。5nm波長的極紫外光源，用只有頭髮絲萬分之一細小的極紫外光在矽片上蝕刻電路，散射、折射率小，能將掩膜上圖形透過透鏡精準曝光到矽片上，執行高效製造程晶片的目的。
光刻機的每道工序、甚至透鏡的每個鏡片之間，都需要設定特定光源引數來控制曝光的能量和效果。所以實際使用中，光源計量起著非常重要的光源精密控制作用。即使有極紫外光源，計量達到精密控制也甚為關鍵。
2、光刻技術透鏡曝光引數補償需要精密分析和調整。透鏡是光刻機最核心部分，採用高2米、直徑1米的二十多塊高精度鏡片串聯成光學鏡頭，透過的照射率要求在幾個奈米之內。
極紫外光透過透鏡和鏡頭進行曝光時，鏡頭的平準精度對透過的光直接影響到解析度和套刻精度。由於光源會根據不同條件進行散射和折射，這時需對穿過透鏡的光源照射不足或欠缺部分進行光照補償，提高良率。
所以，透鏡曝光引數的補償和調整、是保證高質量製程晶片的技術難題。
二、光刻機制程晶片的整個過程，精密控制都是核心內容和難點。
目前全球只有ASML能夠提供波長為13。5nm的EUV光刻技術，它系統集成了眾多高科技工藝和裝置。
如：瑞典的軸承在高速運轉過程中不會產生絲毫位移；法國的閥門使用等離子氣體注入時間、劑量都精準控制；美國的光刻膠塗覆厚薄、材料的篩選；德國精密化工清洗劑使用；工作臺平整精確；甚至是生產區域的真空標準等等，都有精密的控制要求和標準。說明整個光刻機制程晶片的難點是精密控制，任何環節稍有偏差欠缺，可能導致全功盡棄。
三、中國目前有生產光刻機的企業，但技術上與ASML的EUV光刻機有較大距離。
雖然我國有很多企業能生產光刻機所需的裝置和零部件，如中微公司的蝕刻機、北方華劍的PVD裝置、盛美股份的清洗裝置、晶盛機電的矽片、長川科技的封裝測試等等。
但不可否認，只是具備部分頂尖光刻機裝置條件，並沒有解決光刻機的核心技術和裝置要求的困擾，沒有能將頂級光刻機技術和裝置整合為系統的企業。
我國生產光刻機較為全面的只有上海微電子裝備公司（SMEE），採用深紫外光的193nm波長光源來製程晶片。囿於光源波長限制，只能生產製程為28nm工藝的DUV光刻機，相當於2004年奔騰四處理器水平，與EUV有2。5的代差。
ASML製造EUV光刻機還擁有佔員工46%的工程師人才，每個環節、每道工序都有“術有專攻”的工程師精密控制。相對來說，上海微電子要使用極紫外光源的光刻機，人才也是相當缺乏的。
從光刻機的難點中可看出我們攻克光刻機難點的路還較長，有很多研發工作要做、人才需要培養、技術需要積澱，這是我們面臨的嚴峻挑戰。但路在腳下，這些難點會被我們逐一克服，造出自己的頂尖水平光刻機。
網際網路亂侃秀2020-01-21 21:34:05一、光刻機主要是組裝，難點是組裝技術
光刻機的在晶片製造中是用光在矽晶圓上刻畫電路線，而光刻機的原理其實就是放大的單反，光刻機就是將光罩上的設計好積體電路圖形透過光線的曝光印到光感材料上，形成圖形，其中最核心的就是鏡頭。
其次就是解析度，光刻機的解析度是光刻機最重要的技術指標之一，決定了光刻機能夠被應用於的工藝節點水平。
最後是套刻精度，也就是指前後兩道光刻工序之間彼此圖形的對準精度，如果對準的偏差過大，就會直接影響產品的良率。
所以光刻機最重要的技術其實是組裝，就是把所有的元件組裝起來，然後使解析度達到最高，同時套刻精度達到最佳。
也正因為如此，所以ASML曾說就算它公開圖紙，別人也造不出來，就是因為別的的組裝技術達不到，就算給你元件，你也達不到它的解析度和精準。
二、除了組裝技術外，原件等也是關鍵，尤其是光學器件，也就是鏡頭
上面其實也講過了， 除了組裝技術外，原件中最核心的東西是鏡頭，目前鏡頭技術最牛的是日本，所以光刻機的裝置中，光學部分的很多元件是採購自日本的。
三、中國有造光刻機的企業，叫SMEE（上海微電子）
如下圖所示，上海微電子目前能造90nm工藝的光刻機，但ASML造的是7nm/5nm的，中間的差距至少是10年以上，並且還要ASML在原地不動，等著SMEE來追它，可能10年能夠追上。
跋涉者蘭州2020-01-19 08:19:04感謝悟空的邀請！
第一個問題
光刻機技術的難點是：
1、光刻機就是製造晶片的關鍵裝置，中國的晶片是中國科技界心中永遠的傷痛。
中國現在雖然自己可以獨立製造出中低端的晶片，但是對於高階晶片還是無能為力的。
因為中國沒有製造高階晶片的光刻機！
目前世界上能生產高階光刻機只有兩個國家——荷蘭和日本。
荷蘭的ASML公司、日本的尼康NIKON和佳能CANON，這三家公司成為世界高階光刻機的供應商。
其中荷蘭的ASML處於霸主地位，壟斷全世界80%銷售量，107%的利潤。
因為擁有了EUV光刻機，美國的英特爾公司、韓國的三星和中國臺灣的臺積電等少數幾家公司，才能成為製造出高階複雜的晶片。
現在美國的高階晶片對華禁運，華為的高階晶片只能由臺積電代工生產。
可以想象，這樣的形勢對於華為，對於中國整個晶片業來說，都如一把利劍懸在頭頂……。
一旦國際形勢極端變化，臺積電不再為華為代工了，華為的高階晶片將全部中斷。
即便華為具有世界上最先進晶片的設計理念，但是沒有光刻機，巧媳婦也難為無米之炊。
沒有光刻機，中國“5G”就成了水中月，中國的物聯網技術變革與創新和人工智慧的發展將停滯不前。
所以，這臺光刻機對我們太重要了！甚至可以說影響著中國高科技未來的發展走勢。
既然光刻機如此重要，那麼中國能不能製造一臺屬於自己的智慧財產權的光刻機？
答案則是冷冰冰的兩個字：不能！
2、製造光刻機有多難！
也許有讀者會問，荷蘭都可以造出來光刻機，為什麼我們就不能？
難道我們連一個小國家的科技也比不了？
這難免讓國人對中國的科技水平有些失望。
其實不然，因為光刻機太難製造了。
光刻機被譽為世界半導體工業皇冠上的明珠，是當今人類現代工業文明和智慧的結晶。
它包含了數學、光學、流體力學、機械、精密儀器、高分子物理與化學、自動化、影象識別等眾多學科的精華。
ASML公司的是第五代EUV光刻機，它利用極紫外光，將最小工藝節點推到7nm（奈米）。
加工精度為7nm是什麼概念呢？
就是一根頭髮的萬分之一！
這難度有多大呢？
中國生產晶片的上海微電子裝備公司董事長賀榮明進行了形象的比喻：
“相當於兩架大飛機從起飛到降落，始終齊頭並進。一架飛機上伸出一把刀，在另一架飛機的米粒上刻字，不能刻壞了。”
而荷蘭的光刻機也不可能是靠荷蘭一個國家之力造出來的。
EUV光刻機90%的部件都是來至於別的國家，荷蘭ASML公司負責安裝。
光刻機是整個歐美日韓技術在這個領域的集大成者。
光刻機的光源裝置來源於美國；德國提供先進的機械工藝以及世界級的蔡司鏡頭；光學器材技術來自日本；製程分配技術由英特爾、臺積電、三星提供；還有瑞典的軸承，法國的閥件……
當然，他們也都是ASML的股東，享有光刻機的優先供貨權。
這臺光刻機的背後是整個西方最頂級的工程技術、材料技術、設計水平上百年的集中體現。
美國工程師為了其中一個零件，調整了數十年；德國為了一個光學鏡頭，要打磨上百萬次……
所以，ASML曾說過，就算公開圖紙，別人也造不出一樣強的光刻機出來。
其製造難度高於造航空母艦，因為沒有哪個國家可以靠僅僅憑一國之力就能生產出來！
而中國自主生產的光刻機精度是90nm級別，與EUV光刻機至少有一代（15年）的技術差距。
中國想要生產一臺EUV光刻機，目前還不太現實。
就算我們投資再大，但我們整體的工業科技水平，還有待提高。
特別在人才和經驗的積累上，我們的儲備也不足。
第二個問題
中國有沒有能造光刻機的企業，冷冰冰的答案是：沒有！
但是，中國的氣魄，未來一定：有！
雖然困難重重，但是我們也不能妄自菲薄。
回顧歷史，美國對我們進行技術的封鎖，不僅不能遏制中國科技的發展，反而會成為中國科技騰飛的助推器。
我們也應該有這樣信心和實力，這自信來自於我國整體科技實力的提升。
經過40年的積累，中國科技水平在世界上居什麼地位呢？
美國世界第一，處於領跑的地位。
其次，是中、英、法、德、日等國的第二集團，而中國正是第二集團的領頭羊。
光刻機的較量，不是中國科技界與世界某個國家的較量，而是與整個西方科技界的較量。
以一國之力，單挑整個世界，這就是我們的氣魄！
光刻機的突破必然需要整個國家整體統籌佈局。
現在，國內眾多行業的科技工作者為了這一目標在辛勤努力著……
一旦我們能造出自己的光刻機，就標誌中國成為世界科技的巨人，也形成完整配套的工業體系。
那時，中國必將笑傲世界，美國只能無奈乾瞪眼了。
現在只是黎明前的黑暗……
革命尚未成功，我們還需努力！
不喜勿噴哦
俠之無道2020-01-19 13:07:18光刻機在晶片製造領域具有舉足輕重的地位，光刻機決定了電晶體的尺寸，電晶體的尺寸對於晶片的效能具有重大意義，半導體行業對於晶片效能的不斷追求推動了光刻機產品的不斷升級與創新。目前光刻機市場呈現寡頭壟斷的局面，高階技術掌握在巨頭企業手中。國產光刻機的技術仍然落後於國外，在技術研發以及人才建設上還有很長的路要走。
光刻機是光刻工藝的核心裝置，價值含量大、技術要求高，涉及精密光學、精密運動、高精度環境控制等多項先進技術。在所有晶圓製造裝置中，光刻機裝置投資佔比最多達到30%，其次是刻蝕裝置（20%），PVD（15%），CVD（10%），測量裝置（10%），離子注入裝置（5%）等。
全球光刻機市場處於寡頭壟斷狀態，2017年全球光刻膠銷售額中，ASML（荷蘭）佔據全球76%的市場份額、尼康（日本）11%、佳能（日本）6%。而高階7nm製程的EUV極紫外光光刻機裝置領域，完全被ASML壟斷，目前世界上最先進的ASML EUV極紫外光光刻機單價達到一億美元以上，且供不應求。
2016年，中國大陸半導體裝置市場首次超過北美和日本，銷售額達到64。6億美元，同比增長13%，成為全球半導體裝置銷售第三大市場。2017年，中國大陸半導體銷售額以27%的增速達到了82。3億的市場規模，全球佔比15%，僅次於韓國的32%與中國臺灣的20%，我國已經成為半導體裝置銷售大國。
相比於國內半導體裝置銷售市場的繁榮，國產光刻機相對黯淡的多。由於起步較晚且技術積累薄弱，國產光刻機研發企業相對較少，目前僅有上海微電子、合肥芯碩、無錫影速等幾家企業。在公司已量產的光刻機中，技術最先進的是上海微電子的SSA600/20光刻機，可以用來加工90nm製程的晶片，最新的65nm光刻機還在裝置驗證階段。但從指標上看，SSA600/20基本也和ASML的低端產品PAS5500系列屬於同一檔次，與國外技術相比落後5-6代左右。由此可見，國產光刻機要突破壟斷仍然長路漫漫。
國際光刻機巨頭實行技術壟斷，高階的裝置仍然對國內禁售，國產廠商企短時間內很難改變現有市場格局。不過在“02”專項和大基金的推動下，我國半導體裝置產業從無到有，已經有了根本性的進步。而緊接著大基金二期將向國內半導體產業鏈薄弱環節傾斜，更多投資於材料與裝置領域，高階光刻機獲得資金和政策雙重支援的機率非常大。上海微電子承擔著多項國家重大科技專項以及 02 專項光刻機科研任務，在高階國產光刻裝置領域有望實現重大突破。
品牌100分2020-11-10 21:36:08光刻機上面的每一個零部件幾乎都是技術難點，即便整合全球供應鏈，對於一個企業來說，能夠製造出世界上最先進的極紫外光刻機，難度也是超出想象的。如果再受制於全球供應鏈，那麼就必須要打造自主光刻機產業鏈，難度就非同一般，幾乎成為不可能的任務。但是事在人為，中國雖然在極紫外光刻機制造技術上還沒有取得突破，但我們在DUV光刻機制造技術上還是取得了一定的突破，上海微電子28nm光刻機2021年將確定交付客戶，投入使用。
光刻機技術的兩大關鍵難點
提到光刻機技術，就不得不提光刻機的兩大技術難點，一是光刻機的光源，二是光刻機的中心鏡頭。要知道，這兩項技術一項是來自美國的科技公司CYMER公司，另一項則是來自德國著名的卡爾·蔡司公司。當初，荷蘭光刻機巨頭ASML公司為了獲得這兩項技術和產品，可謂是花費重金，為了得到光源技術和產品，ASML花費26億美元收購了CYMER公司，而為了獲得中心鏡頭，ASML則向卡爾蔡司公司投資了20億歐元。
這種操作在國際著名科技公司非常常見，用蘋果CEO庫克的話就是供應鏈壟斷和壁壘。蘋果公司之所以在喬布斯重回蘋果、庫克加盟蘋果之後能夠獲得長足發展，一個重要的核心要素便是供應鏈壟斷，這也是庫克被稱為運營之王的獨門絕技。作為世界上最先進科技的集大成者，荷蘭ASML公司深知抓住核心技術和產品供應鏈有多重要，因此，便不惜重金將CYMER公司和德國卡爾·蔡司納入自己的供應鏈體系。
獨特的光刻機上下游產業鏈
剛剛我們提到荷蘭ASML公司收購或入股上游核心技術和產品供商，以保證自己能夠獲得穩定且排他性的光刻機制造核心技術和產品供應。但是比較為此ASML公司也確實付出了真金白銀，作為一個年銷售規模不算大的市場來說，這對於ASML公司的財務壓力也是非常巨大的。何況，ASML連續30年的高額研發支出，顯然是壓力重重。來自ASML的財報資料顯示，其在過去30年當中，研發支出始終維持在營業收入的15-20%之間，是歐洲研發投入最多的公司之一。
為此，既然ASML自己向上遊供應鏈企業投入資金，它也對自己的下游客戶如法炮製，包括臺積電、三星、英特爾三家著名的晶片製造企業，相繼向ASML投入鉅額資金，成為ASML的股東。這種既是客戶又是股東的關係，使得ASML幾乎完全壟斷了中高階光刻機的市場，其他企業很難與其展開競爭。
與此同時，在ASML研發EUV高階光刻機的時，臺積電、三星、英特爾等晶片製造企業也向其提供了研發經費支援。另外，像臺積電這樣的擁有先進製造技術的公司，也在著力幫助ASML解決光刻機制造過程的技術方案，這對於ASML在研發EUV光刻機的程序提供了極大的幫助。
正是因這從技術、零部件供應商到製造商，再從製造商到客戶，形成了非常嚴密的利益交叉的供應鏈壟斷，才使得ASML光刻機制造能力達到世界頂級，並且基本上不用擔心出現競爭對手。
中國光刻機企業
中國的光刻機企業大家都非常清楚，就是上海微電子，其2021年將向用戶交付28nm製程的最新光刻機產品，但顯然與ASML最新5nm製程的EUV光刻機還存在著相當大的差距。據臺積電的訊息，該公司正在研發3nm和2nm製程工藝，這說明ASML已經擁有了比5nm光刻機更加先進的光刻機產品。
其實，從光刻機研發來說，原理並不複雜，但由於其每一個零部件都屬於製造業皇冠上的明珠，因此，製造一臺高階光刻機最難的是產業鏈上游的供應商。很多人可能不知道，由美國、日本、英國、俄羅斯等40餘個國家聯合簽署的《瓦森納協定》又稱瓦森納安排計劃，規定成員國自行決定是否發放敏感產品和技術的出口許可證，並在自願基礎上向“安排”其他成員國通報有關資訊。但“安排”實際上完全受美國控制。因此，當這些國家向其他國家出口相關高科技產品時，常常會受到美國等成員國的干涉，最終我們想要獲得這項技術或產品便非常困難。
讀史溯源2020-05-24 12:00:02如果說航空發動機代表了人類科技領域發展的頂級水平，那麼光刻機則是半導體工業界皇冠上的明珠。這是集合了光學、流體力學、數學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械加工等幾十種領域的頂尖科技產物。
現如今，世界最高水平的光刻機是荷蘭ASML公司生產的EUV極紫外光刻機，能達到5nm工藝，相當於一根頭髮的萬分之一，且失敗率必須小於0。001%。這種超高階領域只有荷蘭公司一家獨大，而老牌傳統企業如尼康NRS，佳能等只能在中低端徘徊。而我國的光刻機還停留在90nm水平，差距非常大。
光刻機制造有多難？荷蘭公司稱，即使給了圖紙中國也造不出來高階光刻機
嚴格說短期內確實很難，但早晚中國會狠狠的打臉這些外國企業，必然在光刻機領域上取得質的突破，盾構機難不難？中國不但造出來了，還是世界領先級別。
我們理性的談談光刻機為什麼這麼難造。
荷蘭ASML公司並非靠一己之力製造光刻機，其實更像一個組裝廠，10萬多個的零部件分別來自全球幾百家公司，荷蘭公司透過設計圖紙將這些零部件組裝起來。這些零部件都是各大廠商的頂級產品，幾乎都是定製，90%使用了世界最先進的加工技術，甚至一些介面都要工程師用高精度機械進行打磨，尺寸調整次數可能高達百萬次以上，比如德國蔡司掌控聚焦鏡頭，美國Cymer公司掌控極紫光源，瑞典掌控軸承，法國掌控閥件等等。所以，光刻機不僅僅是一臺機器那麼簡單，更是集各國公司技術大成的高科技結晶。
《瓦森納協定》給中國的光刻機發展帶來極大阻礙
這項協定就是限制中國的軍事技術和先進科技技術發展的協議。幾乎所有西方國家的先進技術對中國遮蔽，中國想製造出高階光刻機，就要突破所有的技術壁壘，毫不誇張的說，中國製造光刻機就相當於與全世界高階技術過招。而且想要模仿荷蘭ASML公司的模式進行組裝，更不可能。荷蘭公司與外包客戶達成了共生的合作模式，英特爾、三星、蔡司等都是股東，一旦有技術突破，全球供應鏈中頂尖元件都會第一時間供給荷蘭ASML，對中國基本上是禁運的。其中美國掌控供應鏈的25%，這就讓美國對光刻機有了最大的話語權，讓中國購買光刻機都很困難。
中國現階段只能製造低端的90nm級別光刻機
中國目前能夠量產晶片的商用光刻機，是上海微電子裝置的90奈米的前道光刻機。距離荷蘭公司5nm級別的光刻機至少還有10年的差距，中間隔著28nm、12nm、10nm、7nm。在國內，上海微電子算是光刻機的巨頭了，對前道光刻機、後道光刻機都有研究，封裝晶片的後道光刻機，在國內佔有率達到了80%，在光刻機領域的專利達到了3000多項，聽說即將突破28nm晶片，未來還是很有期待的。
結語
在晶片製造領域，光刻機只是其中一環，未來中國晶片製造業還有很長的路要走。塗抹圓晶的光刻膠被日本的信越和美國的陶氏化學壟斷。將蝕刻後的凹槽注入離子元素的離子注入機只有日本能生產。我們的短板還有很多，任重而道遠，但我相信，我們終將會屹立世界科技之巔，將這皇冠明珠納入囊中。
邢博士談科教2020-06-02 11:45:56光刻機是現代科技和工業能製作的最精密的儀器，是工業皇冠上的明珠，一臺EUV光刻機售價一億美金以上，比很多戰鬥機的售價都要貴。先進的光刻機必須要用到世界上最先進的零件和技術，並且高度依賴供應鏈全球化，荷蘭的ASML用了美國提供的世界上最好的極紫外光源，德國蔡司世界上最好的鏡片和光學系統技術，還有瑞典提供的精密軸承。
另外，為了給光刻機的研發提供充足的資金，ASML還強制讓三星，臺積電，英特爾等重要客戶入股投資了ASML並一起參與開發和反饋光刻機裝置存在的問題，ASML得到了最先進的技術和大量的資金支援。
中國目前由於瓦納森條約先進裝置禁運，很難買到國外的一些先進裝置和技術，中國只能靠自己獨立自主發展光刻機，同時我們國家的精密加工和先進製造業還不是很發達，很多零件的效能不如國外，甚至有些零件我們還造不出來，這就導致我們國家先進光刻機的研發進度遠遠落後於ASML，我們國家自己研發的光刻機目前最好的是上海微電子的90nm製程的光刻機，跟ASML差距很大，雖然這條道路很艱難，但是如果我們做不出來，美國就會一直卡我們的脖子，我們自己的光刻機也在努力追趕世界先進水平。
UTS仰望陽光2020-01-19 16:57:14光刻機涉及的核心技術太多，不是幾句話能說透，否則也不至於成為“卡脖子”的技術與裝置，至少從機械方面的精密加工，甚至可以說極精密加工、微電子、程式控制、光電技術與感應系統……太多太多了，應該說全是難點，尤其是這些技術要組合在一起協同工作，就成了難上加難了，我的疑惑是為什麼荷蘭，現在應該叫尼德蘭了，是如何會在這個領域如此獨佔鰲頭的
南海詩翁2020-01-19 07:20:49凡是西方企圖封鎖我們的技術領，中國人都能自己造出來，只是早晚的事兒，別怕。
科技銘程2020-12-15 14:05:30如果半導體是人類工業史上的一頂皇冠，那麼光刻機就是這頂皇冠上的明珠。
光刻機又名曝光機，是生產大規模積體電路的關鍵裝置，
將電路結構臨時“複製”到塗有光刻膠矽片上的過程，
製造和維護需要高度的光學和精密製造技術。高階光刻機被稱為“現代光學工業之花”
，製造難度很大，全世界只有少數幾家公司能製造。
目前世界最先進的光刻機是荷蘭ASML（阿斯麥）生產的EUV（極紫外光源）光刻機，它核心技術集中在四大領域：頂級的光源（極紫外光系統）、高精度的鏡頭（物鏡系統）、精密儀器製造技術（工作臺）、高階化學材料。
極紫外光系統來自於美國公司Cymer
，一種波長極短的極紫外光，該技術是使用鐳射產生等離子源產生13nm的紫外波長。這種光源工作在真空環境下，產生紫外波長，然後由光學聚焦形成光束，光束經由用於掃描圖形的反射掩膜版反射，由於極紫外光的固有特性，產生極紫外光的方式十分低效。
能源轉換效率只有 0.02% 左右
。
蔡司鏡頭
高精度鏡頭採用蔡司技術
，蔡司是德國曆史悠久的光學儀器廠商，其產品向來是“高貴”的代名詞。同樣的一個鏡片，不同工人打磨，光潔度相差十倍。鏡片材質均勻，更需要幾十年甚至上百年的技術沉澱，EUV光刻機採用的鏡頭要求：
製作一個地球面積大小的鏡頭，誤差在一根頭髮大小
。
精密工作臺，工作臺要求：絕對穩定的工作環境，
晶片的曝光必須在真空中，並且採取恆溫技術，工作室的空氣要比外界乾淨1萬倍，工作臺高速運動期間，系統不能振動。而光刻機要多的事情，
就好比在真空、恆溫、無塵、高速運動的環境中，在一粒米上雕刻清明上河圖，機械動作誤差為皮秒（百萬分之一秒）
，這些基本都是挑戰人類極限的工作。
高階化學材料
：光刻還需要大量的高階化學材料，如光刻膠等，這些高階化學材料又
掌握在日本企業手裡。
單臺EUV裝置裡超過十萬個零件、4萬個螺栓，以及3000多條線路。僅僅軟管加起來，就有兩公里長，這麼一臺龐大的裝置，重量足足有180噸。安裝除錯就需要幾個月。
美國封殺華為的主要方法就是“斷芯”。
一是禁止美國晶片公司向華為出售晶片；
二是禁止晶片製造公司為華為製作晶片；
三是禁止中國企業購買含有美國技術的先進光刻機。
美國對華為的晶片禁令，
首當其衝的就是麒麟晶片，然而還不止這些。
麒麟晶片
華為海思設計的晶片，
AI晶片 昇騰系列、伺服器晶片 鯤鵬系列、5G通訊晶片 巴龍、天罡系列、路由器晶片 凌霄系列
等，這些晶片也全部受到美國限制。
沒有晶片，再好的產品都做不出來，而如今
破解晶片問題的關鍵就在光刻機
。
那麼中國有沒有能夠製造光刻機的企業呢？製造水平有多高呢？和ASML的極紫外光刻機差距多少呢？
我們一起來看看
上海微電子
。
上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家積體電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863資訊保安成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。
上海微電子的主要產品包括
：
600掃描光刻機系列—前道IC製造、500步進光刻機系列—後道IC、MEMS製造、200光刻機系列—AM-OLED顯示屏製造、矽片邊緣曝光機系列——晶片級封裝工藝應用、精密溫控系列—光刻機、刻蝕機應用、精密溫度控制解決方案。
光刻機的精密程度
2020年6月5日，媒體訊息，上海微電子將於2021年—2022年交付第一臺28nm國產沉浸式工藝光刻機。
儘管與世界最先進的5nm製程仍有很大差距，但是這標誌著我國的光刻機技術正在突破。
一旦技術成熟，意味著28nm光刻機將在中國問世，這將推動國產晶片的進一步發展，同時也給其他平板印刷廠家帶來了信心，這將有助於推動更多的廠家共同打造國產光刻機，提高中國在國際市場之上的競爭力。
我們期待著上海微電子的官宣28nm光刻機。
那麼28那麼光刻機技術與最先進的ASML的EUV光刻機差距有多少呢？
而最先進的EUV光刻機，在臺積電的生產技術下，已經成功量產5nm晶片，蘋果A14、麒麟9000已然應用於手機上，3nm工藝製程也在試驗階段，
上海微電子的28nm工藝與ASML的5nm工藝相差4代
。
這4代之差，不僅僅是簡單的數字，更是數十年的經驗積累，而10nm以內的裝置零部件更是被封鎖，7nm、和5nm製作技術也是臺積電等企業的核心技術，更是不可求。所以每進步一次，下一步就更困難。
所以，
中國的自主光刻機任道而重遠，希望我們共同努力
。
以上是我的回答，希望能幫到您，如有不妥之處敬請批評指正。
笨拉燈741001072020-01-21 21:27:27目前還沒有，我希望未來會出現在中國，體量如此大的國家，只要有60年代先輩們造原子彈的精神和幹勁。少一些追逐名利的想法。國家給與更多科研的支援。那麼時間不會太久我輩還能看一看。
浩哥科技智庫2020-06-06 12:55:48光刻機的難點是什麼？咱們有能造光刻機的企業嗎？為什麼培養不出阿斯麥ASML？
製造光刻機的五大難關
第一關，頂尖的光刻機制造人才
咱們國家的半導體產業起步較晚，底子較弱，自主培養半導體人才還是挺慢的；很多半導體人才，咱們還需要從外部挖過來！
第二關，頂尖的半導體技術和半導體裝置
半導體產業起源於美國，歐美日韓和咱們臺灣省掌握著絕大部分半導體技術和半導體裝置；咱們大陸半導體企業掌握的太少了，需要獲得很多授權，眾多核心半導體裝置需要從海外採購！
第三關，數萬個零配件
想要研製光刻機，僅僅一家公司超強是遠遠不夠的，而是需要數十家、數百家半導體企業都很強！
光刻機需要數萬個零配件，絕大部分普通零配件，咱們能夠自給自足；可是，部分核心零配件，還是需要從外部採購！
即使零配件齊全了，也要考驗光刻機制造商的整合組裝能力！
第四關，大量的研發資金
光刻機的研製是投資大、投資週期長、風險大、收益不穩定；如果沒有充足的資金支援，想要加速研製，不太可能；
而且，不僅僅是光刻機制造商需要資金支援，咱們國內的光刻機零配件供應商也需要資金支援！
第五關，突破外部封鎖
全球幾十個國家簽訂了“瓦森納協定”，高科技核心技術和零配件的出口受到嚴格的管控和監督，（美國主導）對咱們中國大陸企業是要禁運的；
想要加速光刻機研製程序，就必須要突破“瓦森納協定”的“封鎖”！
如果突破不了，只能熬下去，慢慢搞，總有一天能搞定！
……
上海微電子正在攻堅28nm光刻機？
咱們國家是有光刻機制造商的，上海微電子已經能夠製造滿足90nm光刻工藝的IC前道製造光刻機！
據悉，最近兩三年，上海微電子一直在朝著28nm光刻機進發！
如果明後年搞定28nm光刻機，將會是咱們國內半導體產業的大喜事！
……
全球任何一個國家都不能獨立培養出阿斯麥ASML，阿斯麥是全球唯一一家能夠製造高階光刻機（EUV極紫外光刻機）的光刻機制造商，它是全球數十個國家的數百家半導體公司共同扶持起來的，尤其是臺積電、英特爾、三星（這三家公司都是阿斯麥ASML的股東）！
光刻機研製之路，任重而道遠！
哪怕難如登天，咱們也要架著雲梯爬上更高峰！
……
以上僅為浩子哥個人淺見，歡迎批評指正；
喜歡的可以關注浩子哥，謝謝！
認同浩子哥看法的，請您點個贊再走，再次感謝！
國禎數碼通訊2021-05-15 11:40:39可以說因為美國對華為的制裁而將我國的晶片製造困境展示在公眾眼前，其實之前我國的晶片生產就已落後於發達國家，只是沒有這麼直接地表現出來。
1996年7月，以西方國家為主的33個國家在奧地利維也納簽署了《瓦森納協定》，共包含兩份控制清單：一份是軍民兩用商品和技術清單，涵蓋了先進材料、材料處理、電子器件、計算機、電信與資訊保安、導航與航空電子儀器、感測與鐳射、船舶與海事裝置、推進系統等9大類，另一份是軍品清單。而中國就在禁運清單之列。
基於《瓦森納協定》，使得我國難以獲得先進的技術和裝備。中芯國際早在2017年就預訂了一臺ASML的7nm製程工藝的光刻機，但是卻一直沒能到貨。
目前最先進的是
極紫外光刻機
，它集世界頂尖技術於一身，至今世界上還沒有一個國家能獨立研製。
而光刻機的研發難度極大，涉及數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、自動化、軟體、影象識別等眾多學科。在構造上也極為複雜，有透鏡、光源、光束矯正器、能量控制器、能量探測器、掩膜臺等機構，
零部件的數量更是誇張，多達10萬個。
就如今的頂級光刻機公司——-阿斯麥公司生產的極紫外光刻機來說，它的光源和控制軟體來自
美國
，超精密機械及蔡司鏡頭來自
德國
，特殊複合材料和光學器材技術來自
日本
，軸承和閥件由
瑞典和法國
提供。
光刻機是高技術控制和精密零部件的組合，是多個國家完成的。可以想象，一國之力製造這麼先進的光刻機有多難，堪比火星登陸。
除去光刻機外，想刻制晶片還需要光刻膠、掩膜版等，而這些也是我國的短板，與世界頂尖水平還有不小的差距。
當然，我國也有製造光刻機的廠家，比如上海微電子公司就是其中的領頭羊，但其產品主要集中是中、低端領域，90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求是沒有問題的。
有訊息說，上海微電子將在今年交付28nm的光刻機。但其製程離5nm、7nm還相差甚遠，更別提將要推出的3nm製程晶片。
有網友說的好，國家之間是沒有同情和幫助的，都是有利益關係的。
透過壓制別國來控制全球這是西方國家一貫的做法，我國的晶片製造短板是不能指望別國，唯有自己發展才是正道！買、買、買的結果將是自我的丟失。
路漫漫其修遠兮，吾將上下而求索——屈原《離騷》
暢遊夢幻2020-01-19 12:52:03世上無難事只要敢攀登，國家重視再難的關也能闖，國家投資部分經費幫企業研發，並列入國家戰略計劃。
青島大哥677704462020-01-19 17:30:07造光刻機難道比兩彈一星還難嗎？關鍵是不是下決心的事要是舉國之力憑現在的科技實力肯定是能造出來還要破除買比造更省事的思想 始終想著關鍵技術是買不來的這個道理相信我國的科學家一定能造出光刻機來。
紅塵0092020-01-19 11:01:47這個領域我們國家應該是屬於空白狀態吧？這個其實是和我們國家這幾十年的經濟發展形式有著密不可分的關係的。我們國家這幾十年的經濟發展模式都是集中在所有產業鏈條的中下端進行發展的。這和我們的國家底子有關——一窮二白，除了勞力什麼都沒有。以至於我們幾乎很少有機會去接觸到整個產業鏈條的上游和頂部（題主所指的技術含量基本上屬於最前沿的開發領域和技術轉化價值的最初階段了）。更不要說我們有多少資金可以投入研發領域了。我們這邊起步太晚，不能和國外相關領域相比。要一步一步往上爬。急不來的。這也就是我們國家在經濟發展中這些年所強調的經濟發展轉型目的。希望我們的經濟發展可以從整個產業鏈條的中下游向著中上游，或者在個別領域實現上游和研發領域進發的經濟指導思想。說普通一點，就是希望可以在經濟上實現由量提升到質的轉變過程。滿足勞動力市場需要產業鏈條上的量的作用來實現，滿足經濟利益最大化則是在產業鏈條上的最上游來實現的。光刻機的難點在於我們連地基都沒有，人家已經高樓萬丈，而我們這裡還在挖地基，尋找地基需要的材料。不知道華僑，日本和我們現有的技術支援能給我們磊出多高的起步平臺了。只知道最前沿技術屬於荷蘭，一枝獨秀。現在談生存與市場需求同步的光刻機只能說是幻想了。
學術頭條2020-12-23 11:28:28涉及領域很廣泛，比如材料科學，精密儀器領域，等等
山石嶙嶙2020-01-19 06:49:09難點在於：鏡頭，光源，2nm精密的機械隨動系統，千分之五的溫度環境控制，經驗極為豐富的設計工作人員及系統裝配能力。
薄霧籠罩著的故鄉2020-01-19 12:33:33光刻機對於別人很難，但對於馬雲不難吧，在中國馬雲最能，整天牛逼哄哄的，據我估計中國人只有馬雲會做光刻機，不懂的事情你們找他就行了。
嘟嘟聊數碼2020-01-19 21:40:12一款晶片的生產製造，一個難點在於晶片設計方面，另一個則在於晶片製造，然而中國現在已經有很多公司有能力設計晶片，最新的龍芯3A也達到了一個不錯的效能，已經使用到了很多領域，但是在關鍵的大晶片製造上，中國仍然很薄弱，中芯國際等晶片製造廠工藝還很落後，其中非常關鍵的一點就是沒有優秀的國產光刻機。
如今荷蘭ASML公司掌握著最先進的10nm甚至更好的光刻機，其最先進的EUV光刻機能賣到一億美元以上，但是國內的光刻機技術水平仍然還在90nm上，差距巨大。
先進光刻機的技術封鎖。由於《瓦森納協定》受到美國的控制，中國不在其中，荷蘭的先進光刻機就無法對中國進行出口，中國有錢也買不來，即使買來也是很多年前淘汰的老舊裝置，這樣國內就無法從源頭上掌握到最先進的光刻技術。
高階人才的稀缺。光刻領域本來就屬於極其小眾的高階技術領域，因為長期缺乏光刻裝置，這樣的人才和專業也就更加稀缺，即使有朝一日買來了先進的光刻機，有多少人能熟練掌握也是一大難題。
鉅額的資金。這是目前制約我國光刻機發展的主要原因，近兩年雖然國家清楚的認識到了半導體對一個行業對一個國家的重要性，並且大力投入資金，扶持了一大批企業，這些資金也只能解一時之急，光刻機龍頭企業ASML每年在光刻機上面的投入是以百億人民幣為單位，這是目前我國半導體企業達不到的。
頂尖的零件。ASML作為世界工業體系的積累結晶，每一個零件每一項技術都是最頂尖的，他的鏡片來自德國蔡司，每一塊都不能有絲毫偏差，這是數十年的技術積澱，其光源來自美國極紫外光龍頭cymer公司（已被ASML收購），這家公司是euv領域的領頭羊，在機器組裝方面選擇了三星和臺灣代工，所有方面ASML都在選用最好的東西，這是國內無法比擬的。
幸運啟航2020-01-19 07:28:40世界上最先進的光刻機生產廠家是荷蘭，中國的這是初級的光刻機技術，中國人只會騙國家的錢，把外國的晶片打磨掉商標，換上自己的，就騙國家說是自己生產的
沁園春丶雪2020-09-21 17:25:16光刻機手機使用，電力使用，軍事使用等，非得哪麼複查不行嗎？
ji霽月2020-01-19 10:32:51光刻機是當今世界的科技製造水平與能力的結晶，是當今高階科技產品的集大成者，它的零部件來自全球十餘個科技先進國家，當然，我們不得不佩服瑞典人的科技設計與綜合協調能力，整部機器的成功製造，應該說是目前人類在科學技術方面高度合作的產物。憑我國當前的科技實力，如果自行製造40或28奈米的機器還有可能，若製造7奈米或5奈米的極紫光刻機尚需很長時日。
