第三章 半導體中載流子的統計分佈(下)
4 雜質半導體(續)
上一次求出了可以解出費米能的一個方程(對n型半導體的),但是實在不好解,只能將溫度分割槽去做近似,看一看費米能變化的規律。
按雜質電離、本徵激發的程度,將整個溫區劃分為“低溫弱電離區”、“中間電離區”、“強電離區”、“過渡區”、“高溫本徵激發區”五個部分。
(1) 低溫弱電離區
此時溫度很低,只有少量的施主雜質發生電離,而本徵激發就更少了。於是有
,也即
取對數化簡,有
以及電子濃度
可以看到,此時費米能隨溫度先升高後下降,而電子濃度隨溫度升高
(2) 中間電離區
位於強電離區與低溫弱電離區中間的部分。此處隨著溫度升高雜質逐漸電離而費米能級逐漸下降。
(3)強電離區
此處大部分雜質都電離了,於是有
,故
於是
施主雜質全部電離,而本徵激發有可以忽略時,電子濃度與溫度無關,稱為飽和區
(4)過渡區
位於強電離區與高溫本徵激發區之間的部分稱為過渡區。此處雜質已全部電離,且本徵激發不可忽略,有
。可以解得
又
,有
最後的近似在
時有效,此時電子、空穴有很大的濃度差,半導體處於靠近飽和區的位置,少子(此時是空穴)濃度隨溫度迅速增大。而當
時,有
此時電子、空穴濃度相近,半導體處於靠近本徵激發的位置。
(5)高溫本徵激發區
繼續升高溫度,本徵激發的載流子濃度迅速上升,遠遠多餘雜質濃度,此時電中性條件與本徵半導體相同,費米能級也移動到禁帶中線附近。
下圖是n型矽的電子濃度與溫度關係圖,可以清楚地看到低溫弱電離-飽和-高溫本徵激發的轉變。
圖片來自劉恩科的《半導體物理學》
對於p型半導體以及同時有施主雜質和受主雜質的半導體,討論方法同上,最終也可以分為上述五個溫區。
5 簡併半導體
仍以n型半導體為例,其在低溫弱電離區,費米能級是先上升再下降的,存在費米能級進入價帶內的可能。此時原有的使用玻爾茲曼分佈來描述導帶內電子分佈的方法不再有效。費米能級不在禁帶的半導體稱為簡併半導體,雜質濃度很高,稱為重摻雜。
令
可得
可以認為
時即需要考慮簡併的效應。
在簡併半導體中,雜質濃度很高,雜質能級即會擴充套件為能帶,使得其中的電子可以參與導電。如果雜質能帶與原有的導帶相連,那麼禁頻寬度就會變窄。這被稱為禁帶變窄效應。
圖片來自劉恩科的《半導體物理學》
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第三章主要講半導體中載流子的統計分佈,原則上會費米分佈就可以全推匯出來。應當注意費米能與溫度的變化關係,至少要清楚溫度改變,費米能的移動方向以及原因。