隨著SSD(固態硬碟)市場的興起,NAND Flash的特性也越來越受到重視。本文從NAND Flash的內部電路出發,簡述NAND Flash的讀操作。對其有清楚的瞭解對於flash特性測試,以及LDPC演算法的設計有著至關重要的影響。

1。 NAND Flash的基本結構

其結構如下圖所示,儲存cell透過drain或source的互聯順序排列成一個string,其中MBLS和MSLS是普通的NMOS管。

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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和所有型別的Flash一樣,儲存在NAND Flash cell中data與其門限電壓(threshold voltage) Vth有著直接關聯。以SLC為例,如下圖所示。

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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如果cell的data = “1”,即位於earse state,如果data = “0”,則其處於program state。如果一個cell中能儲存n bit的data,那麼它就會有

2^{n}

個Vth分佈狀態。對於MLC和TLC,其cell儲存的data bit分別為2和3,分別有4,8個state。

Flash cell和所有的MOS管一樣,cell的電流

I_{cell}\sim f\left(V_{GS} - V_{TH} \right)

。因此透過檢測電流的強度,可以判斷出flash cell的Vth分佈狀態,進而可以讀出其儲存的data。由於flash cell是排列成一個string,所以在讀其中一個cell時,需要保證這個cell不受其它cell的影響。因此,需要對string中其他cell的門極上施加VPASS電壓,如上圖所示,且VPASS>Vthmax。

和所有MOS管一樣,在對flash cell施加一個門極電壓VGS時(也成為讀電壓Vread),根據Vread的大小,cell會處於三個工作狀態:截至,導通,以及飽和。在導通狀態時,cell的電流ID為:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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2。 sensing circuit

在NAND Flash中,有成千上萬個這樣的string結構,也因此需要成千上萬個採集電流的電路結構(sensing circuit)來檢測cell的電流大小。為了說明讀操作,以傳統的sensing circuit結構為例。如下圖所示:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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CBL是bitline的寄生電容。上圖中,恆壓源VPRE先向CBL充電,此階段為充電階段,時長TPRE。在分析CBL放電之前,需要了解一個概念——minimum erase current (IEARMIN):

對於erase state的cell,施加VREAD時,其電流大小與VTH值成反比,所以最小電流對應的是VTH2,如下圖:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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則其最小電流

I_{EARMIN}\sim f\left( V_{READ}- V_{TH2}  \right)

,如下圖:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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T0後,CBL不再充電,處於floating的狀態,等待cell

read operation。T1後,相關cell施加Vread電壓,cell string開始抽電流。當cell位於erased state (state ‘1’)時,

I_{cell} \geq I_{EARMIN}

;位於programmed state(state ‘0’)時,

0\leq I_{cell}<I_{EARMIN}

T0後,CBL與comparator相連,比較電壓為VSEN。根據已有這些引數,定義

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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Teval後,將實際的VBL與VSEN相比較。如果cell位於state ‘1’,Teval後

V_{BL}\leq V_{SEN}

,輸出1;如果cell位於state ‘0’,Teval後

V_{BL}>V_{SEN}

,輸出0。

以上為基本的讀操作過程。所以,對於一次讀操作SRO(Single Read Operation),在充電電壓VPRE,比較電壓VSEN,放電時間TEVAL等引數條件下,由比較器判斷出cell的VTH與VREAD的大小關係。

3。 page buffer

上述只是對read operation的簡單描述,實際的sensing

circuit是一個page buffer,如下圖:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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在讀操作時,與同一WL

(wordline)相連的cell施加的VREAD,同時執行讀操作。因此每個BL (bitline)都會有一個page buffer。基本的page buffer結構如下圖所示:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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其操作過程歸納如下:

結合page buffer的電路結構,

1。 充電階段:MPCH施加VDD+VTHN, MSEL施加VPRE,MHV導通,此時CBL和CSO開始充電,分別至

V_{PRE} -V_{THN}

,VDD。string上的相關cell施加VREAD和VPASS,MBLS施加VDD,但是MSLS 不導通。

2。 MPCH和MSEL關斷,CBL和CSO懸浮。在MSLS導通後,string 開始從CBL抽電流。根據cell的VTH大小和VREAD值,ICELL的值不同。

3。 TEVAL後,MSEL施加VSEN,如果此時

V_{BL} <V_{SEN} -V_{THN}

, MSEL導通 ,VSO=VBL,這說明cell的

V_{TH}<V_{READ}

,平均電流大於

I_{READTH}

。反之 ,平均電流小於

I_{READTH}

, MSEL不導通,VSO=VDD。

其中,Average Threshold

Current 定義為

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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相應的時序圖如下所示:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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4。 LATCH Output

LATCH的結構圖及相關時序圖如下:

從NAND Flash內部電路分析讀操作

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在SRO開始之前,LATCH的OUT端接ground,強制拉低。在SRO結束後,LAT訊號拉高,SO端的訊號送給LATCH,有如下兩種情況:

1。 如果VSO=VDD,則MLAT和MSO都導通,OUT_N拉低,則OUT輸出“1”,即表明cell處於erase

state;

2。 如果VSO =

VSEN-VTHN,則MLAT無法導通,OUT_N保持為高電平,則OUT輸出“0”,即表明cell處於program state。

至此,一次完整的read operation完成。

Reference:

1。 Rino Micheloni, Luca Crippa, Alessia

Marelli, “Inside NAND Flash Memories”,Springer。

2。 R Bez,E Camerlenghi,A Modelli,

“Introduction to Flash Memory”, Proceedings

of the IEEE, Vol。 91, No。 4, 2003。