使用者20533214653132021-11-23 11:19:57光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，它是是用於若干工藝的光敏材料，以在表面上形成圖案化塗， 這個過程在電子行業中至關重要。條萊垍頭
1 簡介及工作原理萊垍頭條
光刻膠（又稱光致抗蝕劑），是指透過紫外光、準分子鐳射、電子束、離子束、X射線等光源的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性，其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝，可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料，被廣泛應用於光電資訊產業的微細圖形線路的加工製作萊垍頭條
miracle29872021-11-25 14:00:23不是。條萊垍頭
光刻膠按其形成的影象分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，塗層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該塗層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝光被溶解，該塗層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠（包括紫外正、負性光刻膠）、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。萊垍頭條
