烏鴉蹲樹梢2021-03-13 18:30:51光刻膠是一種有機化合物，它被紫外光曝光後，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。矽片製造中所用的光刻膠以液態塗在矽片表面，而後被幹燥成膠膜。
光致抗蝕劑又稱光刻膠是光刻成像的承載介質，其作用是利用光化學反應的原理將光刻系統中經過衍射、濾波後的光資訊轉化為化學能量，進而完成掩模圖形的複製。目前，積體電路生產中使用的光刻膠一般由聚合物骨架、光致酸產生劑或光敏化合物、溶劑，以及顯影保護基團、刻蝕保護基團等其他輔助成分組成。光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，特別是近年來大規模和超大規模積體電路的發展，更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸酯就是用於印刷工業的，以後才用於電子工業。
